中科院突然宣布这个好消息!国产5nm光刻机有希望“破冰”?

  众所周知,国内目前的风口行业——半导体行业,即使雷军说,站在风口上,猪大都会起飞,但是半导体这一行,门槛相当高,外行“野猪”除非有一万斤(金),肥猪赛大象那种,可以进场往往。

  举两个例子,“中国半导体之父”张汝京先生从中国台湾回来上海创办中芯国际的时候,自筹了十多亿美元,而当时中国为了鼓励国内半导体发展,不过也是出了一个壹零零亿人民币的项目,一个张汝京就顶得上一个国家项目,可想而知,半导体行业是多“烧钱”。

  其次就是生产线的问题,半导体的产线可不是像什么富士康的流水线,技术含量很高,当时中芯国际为布置一条产线就要十多亿美元,还好当时有很多二手设备。自从华为被美国制裁以后,中国的问题(IC)、半导体制造就受到关注。

  不过最近中国科学院宣布的消息,却让荷兰阿斯麦(ASML)猝不及防,这究竟是怎么一回事呢?

  一、国产伍纳米(nm)光刻技术破冰

  中国科学院正式宣布,贰零贰零年柒月壹日,江苏苏州纳米技术与纳米仿生研究所研张子旸团队 了光刻技术的论文, 了一种新型三层堆叠薄膜结构,在采用双激光束交叠技术的前提下,可以通过精确控制能量密度及步长,实现了伍纳米的特征线宽。

  张子旸的团队是立了大功,为什么?这代表了国产伍纳米(nm)技术的的“破冰”。华为芯片的问题,就是中国半导体制造的问题,这个IC(电路集成、半导体制造)跟IT(互联网服务)行业是畸形发展。

  即使最近上海微电子在制造出了贰捌nm(纳米)的浸润式光刻机,但是正如中微半导体创始人尹志尧所说,像什么单晶硅棒、蚀刻、光刻胶、封装检测都不是最主要的,光刻技术才是最要紧。

  这次中科院正式宣布的消息正正是国内光刻技术的进步,而且还是伍nm(纳米),荷兰ASML(阿斯麦)猝不及防也是应该。

  二、中国半导体设备发展太快

  荷兰ASML(阿斯麦)不仅仅是因为国内光刻技术的发展感到不可思议,而是国内发展的速度实在是太多了,几乎是全面进步——半导体设备。

  荷兰ASML(阿斯麦)这家公司在贰零零零年之前都是不行的,混得还不如富士康,四处抱人家大腿,所以嘴皮子很好,是个“大忽悠”,整合资源的能力一流;刚好中国台湾台积电邀请了个牛人——林本坚,当时四处拜会“大佬”,希望研究浸润式的光刻技术。

  当时是集中全球所有的力量,大量的资金,用了壹伍年的时间,才有了现在伍nm(纳米)的芯片,而现在国内凭一己之力,短短两三年的时间,竟然就在芯片的整个制程(光刻设备,材料技术等)有所进步,甚至提出了新的光刻技术,而且还是伍nm(纳米)的。

  总结

  中国科学院正式宣布的这个消息的确很重磅,国产伍nm光刻机有希望“破冰”,这样看来,任正非也不像是“说大话”,华为的问题的确在接下来的几年内会解决,未来是中国半导体发展的黄金时期。

  荷兰ASML(阿斯麦)猝不及防也是正常,可能未来会多一个强劲的对手。目前光刻机就两个玩家——日本和荷兰,荷兰ASML(阿斯麦)垄断了全部的高端光刻设备;日本原地踏步;而中国未来可期。

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